En los principales productos digitales en las noticias, el monitor de pantalla plana es a menudo uno de los focos de la publicidad, con el desarrollo de los tiempos, la gente se ha acostumbrado a los productos de alta tecnología en la pantalla de espléndido brillo.
En la actualidad, el principal monitor de pantalla plana del mercado es la TFT-LCD, es decir, la pantalla de cristal líquido con transistor de película fina (Thin Film Transistor-Liquid crystal Display).
Como hemos mencionado anteriormente, es posible que la gente no piense que la filtración está tan estrechamente relacionada con la producción de TFT-LCD. A continuación explicaremos la importancia de la filtración en la producción de pantallas planas.
TFT-LCD combina la tecnología microelectrónica con la tecnología de pantalla de cristal líquido, y su estructura es como un “sándwich . La matriz TFT se procesa en el vidrio, y el sustrato con película de filtrado de color se utiliza para formar una caja de cristal líquido utilizando la tecnología LCD, y luego el polarizador se lamina para formar una pantalla de cristal líquido.
El proceso de matriz TFT-LCD es similar al de los semiconductores, salvo que los semiconductores utilizan obleas de silicio,mientras que los transistores de película fina procesan sustratos de vidrio.
En la fabricación de pantallas planas, primero se limpia el sustrato de vidrio y, una vez formada la película en la superficie, se recubre uniformemente el sustrato con la fotoresistencia y, tras los procesos de exposición, grabado de revelado y decapado , los gráficos de la placa de máscara se transfieren al sustrato para formar exactamente los gráficos correspondientes.
En el proceso de la matriz TFT-LCD, los contaminantes proceden principalmente del proceso de fabricación y de la manipulación, embalaje, transporte y almacenamiento de los sustratos de vidrio; los principales contaminantes son partículas de polvo, polvo de papel de fibra, aceite mineral y grasa, y otras grasas, partículas inorgánicas como óxido de silicio, y residuos del proceso de preparación, manchas de agua, huellas dactilares, etc.
Estos contaminantes afectan directamente a la calidad y la eficiencia económica del producto final, por lo que el producto pasa por un complejo proceso de limpieza y, tras la filtración, estas soluciones de limpieza pueden descargarse o reciclarse.
Para las diferentes etapas de fabricación, Brother Filtration ofrece las soluciones de filtración correspondientes. A continuación se detallan las soluciones de filtración.
Antes de comenzar la producción de sustratos de vidrio, es necesario eliminar las sustancias extrañas con propiedades físicas, químicas y eléctricas de la superficie del sustrato que afectan a la formación de la película y el polvo, el aceite y los óxidos naturales adheridos a la superficie del sustrato para proporcionar una capa de película limpia y una textura limpia para la producción posterior, además de eliminar el polvo y las sustancias extrañas de la superficie después de la formación de la película.
Puede obtener más información en nuestra introducción al sector de la limpieza de piezas.
Los pasos incluidos en el proceso de limpieza y las soluciones de producto recomendadas por Brother Filtration se muestran en el siguiente diagrama.
El proceso de formación de película se divide principalmente en dos formas, una es la deposición de película metálica por pulverización catódica, mediante partículas cargadas que bombardean la superficie del material, de modo que los átomos obtienen suficiente energía para entrar en la fase gaseosa, depositada en la superficie de la pieza de trabajo, y el uso de gas es generalmente gas inerte (como el argón);
La otra forma es la deposición de película no metálica CVD, el uso de la tecnología PECVD, una serie de reacciones químicas para generar productos sólidos y depositarlos sobre la superficie del sustrato de vidrio, el uso de gases especiales electrónicos, tales como silano, fosforano, y trifluoruro de nitrógeno.
Cualquiera que sea el método utilizado implica el suministro de gas, el gas de electrones necesita ser filtrado para eliminar cualquier contaminante arrastrado en el suministro de gas antes de entrar en la cámara del equipo para participar en la reacción.Brother Filtración recomienda nuestra carcasa del filtro de gas para ayudarle a eliminar las impurezas en el gas.
El proceso fotolitográfico consta de cuatro partes: lavado, recubrimiento, exposición y revelado.
En el proceso de litografía de los transistores de película fina, cada paso puede introducir partículas nocivas de contaminación, microburbujas, defectos vacíos y contaminación metálica en la superficie del sustrato de vidrio, por lo que el proceso de lavado es esencial.
El recubrimiento, la exposición y el revelado son pasos importantes en la fotolitografía. El fotorresistente se recubre sobre el sustrato de vidrio, se sensibiliza selectivamente mediante enmascaramiento con placa de máscara y, a continuación, el fotorresistente sensibilizado se elimina con la solución de revelado para curar el fotorresistente no sensibilizado.
La solución de revelado comúnmente utilizada es una solución de hidróxido de amonio cuaternario (TMAH).
El proceso de grabado elimina la capa de la película que no está enmascarada por la fotorresistencia, con lo que se obtiene exactamente el mismo patrón en la película que en la fotorresistencia. Los métodos de grabado se dividen en grabado húmedo, que utiliza la reacción química de la solución, y grabado seco, que utiliza tecnología de gas y plasma para grabar el material.
En el grabado húmedo, el sustrato de vidrio se graba en un tanque especial y luego se limpia en un tanque de lavado, y finalmente se seca.
El grabado en seco es el uso del gas de reacción bajo la acción de descarga de plasma de campo eléctrico de alta frecuencia, el plasma y el sustrato después de la acción, la película no enmascarada por la fotorresistencia se graba, los gases comúnmente utilizados para el hexafluoruro de azufre, oxígeno, gas cloro, etc, estos gases también se pueden utilizar para evitar la contaminación Gist tratamiento de filtro de gas ultrapuro.
En la fabricación de pantallas planas, es necesario desprender el fotoresistente residual tras el proceso de formación de la película-litografía-grabado, con lo que se pone fin al proceso de esta capa de película.
El sustrato de vidrio se sumerge en el baño de decapado y, una vez ablandada la capa fotorresistente, la solución de decapado se sustituye por IPA, a continuación se lava en un tanque de lavado con agua y, por último, se seca.
Gracias a sus años de experiencia en filtración y a su avanzada tecnología de fabricación, Brother Filtration es capaz de proporcionar cartuchos filtrantes con membrana y carcasa de filtro de gas útiles en todos los procesos de producción de TFT-LCD.
El politetrafluoroetileno (PTFE) se utiliza para crear los filtros de membrana de PTFE con una superficie filtrante plisada.Brother Filtration fabrica 2 tipos de cartuchos filtrantes de membrana de PTFE, que son el cartucho de PTFE hidrófobo Deltamax y el cartucho de PTFE hidrófilo Deltamax.
Con vías de flujo adecuadas entre los pliegues del medio filtrante, la técnica de pliegues maximiza la superficie útil del filtro.
Estos filtros de cartucho de Brother Filtration están fabricados con PTFE y medios de soporte de polipropileno, ambos aptos para uso biológico y químicamente inertes. La construcción del cartucho utiliza métodos de sellado termoplásticos en lugar de adhesivos potencialmente contaminantes.
El filtro de membrana de polietersulfona o cartucho filtrante plisado PES es otro tipo de cartucho filtrante de membrana. Está fabricado con un polímero de polietersulfona sulfonado. A diferencia de los filtros de cartucho de profundidad, los filtros de cartucho de membrana utilizan la superficie para bloquear los contaminantes. Los cartuchos filtrantes de membrana ofrecen una mayor eficacia de retención.
Una característica del cartucho filtrante plisado de PES es la estructura asimétrica de los poros y un diseño de mayor superficie (0,75 m2/10 pulgadas de longitud), que ofrece una capacidad de carga de suciedad mucho mayor y un área de filtración efectiva mayor que los filtros de cartucho plisado de membrana simétrica.
Las industrias biotecnológica, alimentaria, farmacéutica y de bebidas utilizan con frecuencia la filtración de gases, ya que todas estas aplicaciones otorgan un gran valor a la pureza. Se necesitan grandes estándares y alta pureza, independientemente de la esterilización o la filtración de humedad.
La carcasa del filtro de gas funciona con el cartucho filtrante para purgar las partículas del gas de alta pureza. Se utilizan diferentes cartuchos de filtro para encajar dentro de la carcasa en función de las diversas demandas.
La carcasa del filtro de gas de Brother Filtration está hecha de acero inoxidable 304L o 316L, que puede adoptar una apertura rápida. Sus beneficios incluyen una excelente precisión de filtración, tiempos de filtración rápidos, adsorción ow, sin desprendimiento de medios, sin fugas, resistencia a la corrosión ácida y alcalina, y un funcionamiento sencillo.
Con el desarrollo de los productos digitales, la gente anhela cada vez más productos de alta calidad con mejores pantallas planas. La filtración es una parte crucial de la producción de pantallas planas y ayuda a los fabricantes a producir productos de alta calidad y más competitivos.
Brother Filtration no sólo fabrica todo tipo de productos de filtración que se pueden aplicar en la producción de TFT-LCD, sino que también ofrece mejores soluciones de filtración para los fabricantes de pantallas planas. Si necesita más soluciones de filtración o un mejor cartucho de filtro para ayudar a su fabricación, no dude en ponerse en contacto con nosotros directamente.
